Англо-русскоязычный научный химический журнал
"БУТЛЕРОВСКИЕ СООБЩЕНИЯ"
Русский
|
English
Главная/Авторизация
|
О журнале
|
Просмотр журнала/Поиск
|
Первичная регистрация
|
Интернет-конференции
|
Форумы
Сведения о статье:
Лысанова М. А.
,
Маскаева Л. Н.
, Поздин А. В.,
Марков В. Ф.
Фотокаталитическое разложение метиленового синего при участии тонкопленочного сульфида меди(II)
Данные о статье:
Название статьи:
Фотокаталитическое разложение метиленового синего при участии тонкопленочного сульфида меди(II)
Все авторы публикации в порядке следования:
Лысанова М. А.
,
Маскаева Л. Н.
, Поздин А. В.,
Марков В. Ф.
Аннотация:
Проблема очистки воды от токсичных соединений в последнее время становится все более актуальной. В промышленных и коммунальных стоках растет содержание антибиотиков, красителей и других трудноокисляемых органических соединений, с полным удалением которых традиционные методы водоподготовки не справляются. Одним из наиболее перспективных и экологически чистых методов очистки воды является фотокаталитическое разложение органических соединений под действием света в присутствии полупроводниковых материалов. В настоящей работе представлены результаты исследований каталитической активности химически осажденных пленок CuS и CuS (Ni) в реакции фотодеградации метиленового синего. Для целенаправленного химического осаждения пленок сульфида меди проанали-зированы ионные равновесия в системе «CuSO4 – CH3COONa – CH3COOH – N2H4CS» и определены преобладающие в растворе комплексные соединения меди(II) в области значений рН 0-14, а также установ-лена потенциальная область образования сульфида меди(II) по гомогенному механизму. Химическим осаждением получены пленки CuS толщиной 100±10 нм с хорошей адгезией к поверхности как ситалла, так и матированного кварца. Электронно-микроскопическими исследованиями поверхности пленок CuS, осажденных на ситалловые подложки, показано, что частицы, из которых они сформированы, имеют средние размеры ~10 нм. Показано, что степень разложения красителя метиленового синего на поверх-ности тонкопленочного фотокатализатора СuS под действием видимого света составляет 15.6%.
ROI:
jbc-01/23-73-2-92
DOI:
10.37952/jbc-01/23-73-2-92
Ключевые слова:
тонкие пленки, химическое осаждение, сульфид меди, фотокаталитическое разложение, метиленовый синий
Общий форум статьи:
Смотреть форум
Шапка статьи в pdf:
Скачать [размер файла: 230кб.]
Дата: 24.03.2023 16:16:05
Комментарий:
Главная/Авторизация
|
О журнале
|
Просмотр журнала/Поиск
|
Первичная регистрация
|
Интернет-конференции
|
Форумы
Все права пренадлежат © ООО "Инновационно-издательский дом "Бутлеровское наследие".