Англо-русскоязычный научный химический журнал
"БУТЛЕРОВСКИЕ СООБЩЕНИЯ"
Русский | English

Главная/Авторизация |О журнале | Просмотр журнала/Поиск | Первичная регистрация | DVD-версия журнала | Интернет-конференции | Форумы

Сведения о статье:

Лысанова М. А.Маскаева Л. Н. , Поздин А. В.,  Марков В. Ф.  Фотокаталитическое разложение метиленового синего при участии тонкопленочного сульфида меди(II)

Данные о статье:
Название статьи: Фотокаталитическое разложение метиленового синего при участии тонкопленочного сульфида меди(II)
Все авторы публикации в порядке следования: Лысанова М. А.Маскаева Л. Н. , Поздин А. В.,  Марков В. Ф.
Аннотация: Проблема очистки воды от токсичных соединений в последнее время становится все более актуальной. В промышленных и коммунальных стоках растет содержание антибиотиков, красителей и других трудноокисляемых органических соединений, с полным удалением которых традиционные методы водоподготовки не справляются. Одним из наиболее перспективных и экологически чистых методов очистки воды является фотокаталитическое разложение органических соединений под действием света в присутствии полупроводниковых материалов. В настоящей работе представлены результаты исследований каталитической активности химически осажденных пленок CuS и CuS (Ni) в реакции фотодеградации метиленового синего. Для целенаправленного химического осаждения пленок сульфида меди проанали-зированы ионные равновесия в системе «CuSO4 – CH3COONa – CH3COOH – N2H4CS» и определены преобладающие в растворе комплексные соединения меди(II) в области значений рН 0-14, а также установ-лена потенциальная область образования сульфида меди(II) по гомогенному механизму. Химическим осаждением получены пленки CuS толщиной 100±10 нм с хорошей адгезией к поверхности как ситалла, так и матированного кварца. Электронно-микроскопическими исследованиями поверхности пленок CuS, осажденных на ситалловые подложки, показано, что частицы, из которых они сформированы, имеют средние размеры ~10 нм. Показано, что степень разложения красителя метиленового синего на поверх-ности тонкопленочного фотокатализатора СuS под действием видимого света составляет 15.6%.
ROI: jbc-01/23-73-2-92
Ключевые слова: тонкие пленки, химическое осаждение, сульфид меди, фотокаталитическое разложение, метиленовый синий
Общий форум статьи: Смотреть форум
Шапка статьи в pdf: Скачать [размер файла: 230кб.]
 Дата: 24.03.2023 16:16:05
Комментарий:




Главная/Авторизация |О журнале | Просмотр журнала/Поиск | Первичная регистрация | DVD-версия журнала | Интернет-конференции | Форумы

Все права пренадлежат © ООО "Инновационно-издательский дом "Бутлеровское наследие".